抛光機操作(zuò)的關鍵是要設法得到zui大的抛光速率，以便盡快除去磨光時産(chǎn)生的損傷層。同時也要使抛光損傷層不會影響zui終觀察到的組織，即不會造成假組織。前者要求使用(yòng)較粗的磨料，以保證有(yǒu)較大的抛光速率來去除磨光的損傷層，但抛光損傷層也較深;後者要求使用(yòng)zui細的材料，使抛光損傷層較淺，但抛光速率低。

　　解決這個矛盾的的辦(bàn)法就是把抛光機分(fēn)為(wèi)兩個階段進行。粗抛目的是去除磨光損傷層，這一階段應具(jù)有(yǒu)zui大的抛光速率，粗抛形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡可(kě)能(néng)小(xiǎo);其次是精(jīng)抛(或稱終抛)，其目的是去除粗抛産(chǎn)生的表層損傷，使抛光損傷減到zui小(xiǎo)。抛光機抛光時，試樣磨面與抛光盤應平行并均勻地輕壓在抛光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而産(chǎn)生新(xīn)磨痕。同時還應使試樣自轉并沿轉盤半徑方向來回移動，以避免抛光織物(wù)局部磨損太快在抛光過程中(zhōng)要不斷添加微粉懸浮液，使抛光織物(wù)保持一定濕度。濕度太大會減弱抛光的磨痕作(zuò)用(yòng)，使試樣中(zhōng)硬相呈現浮凸和鋼中(zhōng)非金屬夾雜物(wù)及鑄鐵中(zhōng)石墨相産(chǎn)生“曳尾”現象;濕度太小(xiǎo)時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作(zuò)用(yòng)減小(xiǎo)，磨面失去光澤，甚至出現黑斑，輕合金則會抛傷表面。為(wèi)了達到粗抛的目的，要求轉盤轉速較低，不要超過600r/min;抛光時間應當比去掉劃痕所需的時間長(cháng)些，因為(wèi)還要去掉變形層。粗抛後磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有(yǒu)均勻細緻的磨痕，有(yǒu)待精(jīng)抛消除。

　　精(jīng)抛時轉盤速度可(kě)适當提高，抛光時間以抛掉粗抛的損傷層為(wèi)宜。精(jīng)抛後磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可(kě)見到磨痕。抛光機抛光質(zhì)量的好壞嚴重影響試樣的組織結構，已逐步引起有(yǒu)關專家的重視。國(guó)内外在抛光機的性能(néng)上作(zuò)了大量的研究工(gōng)作(zuò)，研究出不少新(xīn)機型、新(xīn)一代的抛光設備，正由原來的手動操作(zuò)發展成為(wèi)各種各樣的半自動及全自動抛光機。