1.電感耦合等離子體發射光譜儀應用范圍及特點

具有突出的抗干擾和分析檢測性能，應用于研發、檢測等分析需求，可方便進行定性、半定量和精確定量分析，是常量、微量和痕量無機元素同時分析的理想儀器。

高精度與寬動態范圍：支持常量至痕量元素的精確分析，具備出色的抗干擾能力，滿足多樣的分析需求。

靈活的射頻電源系統：功率400W~1800W連續可調，低功耗模式減少氬氣消耗，適應多種復雜樣品分析。

多功能觀測模式：提供軸向、徑向等多種觀測方式，信號自動衰減功能簡化樣品處理，提高檢測效率。

的光學設計：恒溫光學系統和高分辨率光柵確保長期穩定性和準確性，有效抵御環境溫度變化影響。

友好的軟件平臺：全中文圖形化界面，易于操作，支持遠程診斷和維護，方便生成測試報告及數據管理。

優化的進樣系統：采用MFC控制氣流，可選配多樣化的進樣系統（如耐高鹽或耐HF），適應各種樣品條件。

2.電感耦合等離子體發射光譜儀工作環境

電壓：220V AC±10%

室溫：環境溫度（25-50）℃

相對濕度：（50-70）%RH

3.技術規格

3.1.等離子體射頻源：

3.1.1：固態射頻電源，功率范圍400W-1800W，功率連續可調，具有更強的樣品適應性；

3.1.2：自激式RF射頻發生器：自激式電源開機極速震蕩匹配，功率負載能力強，可以直接分析99%的甲苯樣品。自動震蕩調諧，散熱方式為水冷，適應復雜樣品分析功率切換，抗震抗干擾可靠；

3.1.3：低功率模式：提供400W超低功率待機，配備小流量迷你炬管，降低氬氣消耗50%以上，待機時氬氣用量≤5L/min；

3.1.4：等離子體觀測方式：可配置軸向、徑向、雙向和同時雙向四種觀測模式。垂直矩管可避免高鹽沉積，延長炬管使用壽命，降低炬管耗材支出。軸向觀測使用金屬冷錐去除尾焰，獲得較高的靈敏度，無需配置空氣壓縮機，節省外部配件及消耗。徑向觀測的等離子觀測位置可調，針對不同元素的分析需求，具有更強的抗干擾能力；

3.1.5：信號自動衰減：具有軸向衰減和徑向衰減功能，可衰減含量30%以上的樣品，使得樣品高含量元素，能夠一次分析完成，不需要反復稀釋，降低樣品前處理難度，支持簡化分析；

3.1.6：RF射頻頻率：27.12MHz/40.68MHz(可選)，效率大于75%；

3.1.7：RF功率穩定性:≤0.05%；RF頻率穩定性：≤0.01%；

3.1.8：工作線圈：紫銅管內徑25mm/3匝。

3.1.9：石英炬管：三同心型外徑20mm

3.2.0：霧化器：通用耐高鹽霧化器外徑6-6.2mm

3.2.0：霧室：雙筒型/旋流型霧化室

3.2.光學系統：

3.2.1：恒溫光學系統，C-T型光路設計，反射次數少，光能量損失低。所有光學元件均密封于熱平衡光室中，主機與光室熱隔離設計，更好的抵御外界環境溫度變化，光室精密恒溫35℃±0.1℃；

3.2.2：穩定高效的全固定高分辨率光柵分光系統，抗震強，穩定可靠；

3.2.3：波長范圍：165-850nm，三光柵全波長覆蓋；

3.2.4：單色器：采用凹面反射鏡代替凸透鏡作為光學聚焦元件，解決了不同元素焦點不同而引起的色差問題，同時提高光學系統效率。

3.2.5：光柵類型：離子刻蝕全息光柵，刻數越多，分辨率越高（配置2400L/3600/4320L光柵）；

3.2.6：波長校正:每次點火，僅用Ar譜線，自動進行光譜位置校正，保證分析波長的正確性，無須波長校正溶液；

3.2.7：氬譜線實時校準技術：利用無干擾的氬特征譜線，對光譜的細微偏移進行實時校正，實現光譜的優良積分，確保長期穩定性，良好消除光譜漂移對于測量的影響。

3.2.8：吹掃型光室：對190nm以下波長測定，選擇氮氣進行光路吹掃。

3.2.9：雜散光：≤2.0mg/L（10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm處測定）；

3.2.10：光學分辨率：0.007nm(3600線光柵）；0.014nm(2400線光柵）；0.004nm(4320線光柵）。

3.3. 檢測器：專用進口日本濱松檢測器（R928/R212UH）

3.3.1：防飽和溢出：針對每一個譜線進行背照式防溢出設計，消除譜線飽和溢出問題，無需擔心譜線飽和對鄰近譜線的影響；

3.3.2：智能積分設計：信號背景同步采集，積分時間取決于譜線的光強，自動計算譜線積分時間，同時以信噪比獲得高強度信號和弱信號，拓寬的動態范圍，使高低含量元素可以同時檢測，避免試樣反復稀釋；

3.3.3：檢測器表面無任何光轉換化學涂膜，不會因為涂層老化而導致檢測器損壞更換。

3.3.4：選擇需要測量的各個元素，設定好測量參數，一切交給儀器，最后直接得到所有元素的測量結果，簡單、省事。

3.3.5：強大的圖形診斷功能可以幫助客戶充分的了解當前儀器的工作狀態，并通過適當的參數設置來觀察不同條件下儀器的運行狀況，以把握的測量條件。